Плазмо- химическое травление
Плазмохимическое травление – процесс удаления частиц материала в среде реактивной плазмы. Что это значит?
При классическом ионном травлении удаление частиц материала происходит за счет соударения ионов рабочего инертного газа, чаще всего аргона, с поверхностью образца. Однако скорость такого процесса невысока и зависит от коэффициента распыления материала изделия.
Чтобы ускорить скорость травления и сделать ее более селективной используется процесс плазмохмического травления, основное отличие которого от классического травления заключается в добавление в рабочую камеру реактивного газа, чаще всего фтористого. Да счет химической реакции с материалом образца и одновременной бомбардировки инертным газом – аргоном становится возможен процесс глубокого травления, например кремния, который получил название Bosch Process.
Как строится технологический процесс?
Технолог загружает образцы в рабочую камеру, закрывает ее и запускает технологический процесс, первым шагом которого является вакуумирование камеры. После достижения требуемого давления происходит напуск рабочего инертного газа и реактивного газа. При стабилизации давления на электроды с блока питания подается потенциал и зажигается плазма. Время процесса и требуемые показатели мощности, вкладываемой в разряд, подбираются эмпирически под конкретный тип образцов. После окончания травления газы удаляются из рабочей камеры. По окончанию всего процесса происходит разгерметизация установки и извлечение образцов.
