Плазменное травление

Плазменное травление

Плазменное травление – процесс удаления частиц материала за счет бомбардирования поверхности изделия ионами инертного газа, чаще всего аргона. Зачем это нужно?
Как правило, при хранении на воздухе, а также транспортировке металлических изделий их поверхность пассивируется, что вносит сложности при дальнейших технологических операциях, например осаждении покрытий или монтаже. Отличным решением является ионное травление поверхности для устранения пассивного слоя металла в инертной плазме. 

Технологический процесс реализуется следующим способом. После загрузки образца в камеру происходит ее герметизация. Рабочий газ подается в камеру, а затем, после стабилизации давления, подается потенциал с блока питания на электроды. В высокочастотной или низкочастотной плазме происходит очистка поверхности изделия. Мощность и время процесса подбираются эмпирически индивидуально для каждого типа образцов. После окончания процесс рабочий газ удаляется из камеры, зачем после небольшой выдержки камера может быть разгерметизирована, а изделия извлечены. 

Плазменное травление подойдет для:

• Удаления пассивного слоя перед пайкой с покрытий печатных плат;
• Удаления пассивного слоя с золотого покрытия металло-керамических и стекло-керамических корпусов перед монтажом;
• Удаление пассивного слоя с металлизации, осажденной на оптические линзы, стекла для дальнейшей пайки и герметизации;
• Как замена химического травления перед покрытием для некоторых изделий, например в случае наличия риска повреждения подложки раствором;
• Для обработки изделий или тары из области фотоники, биологии, микрофлюидики, микроэлектроники, химической промышленности, нефтегазовой промышленности.