Осаждение пленок/покрытий в вакууме - это формирования слоя материала на подложке, толщина которого может составлять от нескольких нанометров до нескольких десятков микрометров. GN tech разрабатывает оборудование для осаждения покрытий методами PVD - физического распыления в вакууме. Наиболее популярным для осаждения пленок стал метод магнетронного распыления, который, на сегодняшний день наиболее универсален, так как с помощью этого метода возможно сформировать пленки металлов, полупроводников, диэлектриков в широком диапазоне толщин.
Второй группой методов по популярности стали испарительные методы: резистивное и электронно-лучевое испарение. Эти методы отлично подойдут для осаждения драгоценных металлов, таких как золото и серебро. Комбинируя описанные методы в рамках одного оборудования возникает возможность осаждения многослойных структур из различных материалов.
Осаждения пленок может происходить на подложки из любых материалов: полиимидные пленки, кремниевые пластины, керамические подложки из оксида алюминия, нитрида алюминия, пластины ниабата лития и многие другие материалы.
