GN tech предлагает проектирование оборудования для центров разработок, мелкосерийных производств и для исследовательских лабораторий. В качестве технологических источников могут быть использованы: магнетронные распылительные системы, электронно-лучевые испарители, резистивные испарители. Для повышения адгезионных свойств установка может оснащаться источников ионов для предварительной очистки или ассистирования при осаждении покрытий. Для подбора оборудования обращайтесь к нашим специалистам.
Акцент в проектировании подобного оборудования сделан на максимальную гибкость технологического процесса, простоте переналадки оборудования, а также на возможности отслеживать максимальное количество параметров.
Реализация оборудования доступна как с шлюзом, так и без него. Подробнее с PVD технологиями и принципами построения технологических процессов можно ознакомиться в разделе "технологии".