RU | ENG | 中文
RU | ENG | 中文
Кнопка поиска

Установка плазменной очистки поверхности MPC-RF100F-170RAW-2

 /   /   / 
Установка плазменной очистки поверхности MPC-RF100F-170RAW-2
Установка плазменной очистки поверхности MPC-RF100F-170RAW-2
 Название параметра

  Значение  

Объем камеры

170 л.

Генератор

 ВЧ, 13,56 МГц

Габариты

850 x 990 x 1900 мм

Новая установка для плазменной очистки поверхности материалов оснащена алюминиевой камерой объемом 170 л. с 10 электродами-полками, газовой системой с 1 до 4 линиями подачи газа и сенсорным управлением, позволяющим создавать до 50 рецептов.
У Вас возникли вопросы? Пожалуйста, отправьте нам сообщение!