RU | ENG | 中文
RU | ENG | 中文
Кнопка поиска

Оборудование для кристального производства

 /   / 
Оборудование для полупроводниковых производств

Компания GN tech в рамках проекта GN FAB разрабатывает и производит серийно оборудование для микроэлектроники, предназначенное для:

  • проведения процессов подготовки пластин и  осаждения слоев различных материаллов (кластерная многопозиционная установка), 

  • травления пластин в удаленной плазме,

  • контроля привнесенной дефектности, 

  • универсальные модули загрузки-выгрузки (https://gn-fab.ru/produktsiya/moduli/) 

Конфигурация оборудования разрабатывается исходя из исследовательских или производственных задач. Оборудование, производимое для производств не подразумевает гибкую переналадку технологии и максимально оптимизировано под конкретную задачу заказчика. Оборудование для разработок и исследователей имеет максимально гибкое ПО и гибкое оснащение. 

Подробнее с проектом GN FAB можно ознакомиться на официальном сайте https://gn-fab.ru/ 

Многопозиционная универсальная установка Feba реализует базовые технологии очистки, нанесения покрытий, травления, термообработки в одном вакуумном цикле.
Оборудование для кристального производства
Установка травления в удаленной плазме Vega предназначена для плазмохимического удаления полимеров, в том числе фоторезистов, с полупроводниковых пластин диаметром 100/150 мм
Оборудование для кристального производства
Установка контроля привнесенной дефектности Aura предназначена для обнаружения дефектов на поверхности пластин диаметром 100/150 мм
Оборудование для кристального производства

Снижение требований к внешней среде

Оборудование для кристального производства
Пришлите нам Ваше ТЗ и наши специалисты свяжутся с Вами