RU | ENG | 中文
RU | ENG | 中文
Кнопка поиска

Оборудование для кристального производства

 /   / 
Оборудование для кристального производства

Компания GN tech разрабатывает плазменное оборудование для осаждения покрытий металлов, полупроводников, диэлектриков PVD методами с толщинами от нескольких нанометров до нескольких десятков микрометров. Конфигурация оборудования разрабатывается исходя из исследовательских или производственных задач. Установки для производств - оборудование, которое не подразумевает гибкую переналадку технологии и максимально оптимизировано под конкретную задачу. Оборудование для разработок и исследователей имеет максимально гибкое ПО и гибкое оснащение. 

Многопозиционная универсальная установка Feba реализует базовые технологии очистки, нанесения покрытий, травления, термообработки в одном вакуумном цикле.
Оборудование для кристального производства
Установка травления в удаленной плазме Vega предназначена для плазмохимического удаления полимеров, в том числе фоторезистов, с полупроводниковых пластин диаметром 100/150 мм
Оборудование для кристального производства
Установка контроля привнесенной дефектности Aura предназначена для обнаружения дефектов на поверхности пластин диаметром 100/150 мм
Оборудование для кристального производства

Снижение требований к внешней среде

Оборудование для кристального производства
Пришлите нам Ваше ТЗ и наши специалисты свяжутся с Вами