| Параметры |
Значения |
| Диаметр обрабатываемых пластин |
до 100 мм |
| Равномерность травления |
< 3% |
| Технология |
ICP, RIA (реализуется путем подачи смещения на столик) |
| Производительность |
от 20 пластин/час Время профилактики не более 4 часов |
| Параметры травления |
Диаметр отверстий от 0,3 мкм Аспектное соотношение для: Mixed-process до 1:3, зависит от диаметра отверстий Bosch process до 1:20
Угол наклона стенки для: Mixed – от вертикали регулируемый от 0° до 10°±10%, Bosch от горизонтали до 90°±3% |
| Габариты ДхШхВ |
550 х 1050 х 2500 мм |
| Масса |
600 кг/м2 |
Установка анизотропного плазмохимического травление в плазме высокой плотности Keto предназначена для реализации процессов анизотропного плазмохимического травления и реактивного ионного травления (путем подачи смещения на столик), bosh-process проводящих, диэлектрических слоев, полимерных соединений в микроэлектронных производствах на пластинах диаметром до 100 мм.
Установка Keto может использоваться как для серийного выпуска продукции, так и для отработки технологических процессов для последующего переноса в массовое производство.
Опционально установка может быть оснащена автоматизированной системой загрузки-выгрузки пластин из открытых кассет.
Состав установки:
- Вакуумный модель загрузки-выгрузки со шлюзовой камерой
- Вакуумная система
- Газовая система
- Технологический реактор
- Столик технологический
- Система электрическая
- Система охлаждения/термостатирования
- Система автоматизированного управления
- Оборудование для пластин до 100 мм, реализующее современные технические решения.
- Шлюзовая загрузка-выгрузка по одной пластине с плавной откачкой и напуском.
- Система перемещения пластин между шлюзом и технологической станцией.
- Герметичная изоляция технологической станции от транспортной камеры во время проведения технологического процесса.- Возможность встраивания в стену чистой комнаты или размещения в чистой комнате.
- Низкая трудоемкость и малое время профилактики, удобство обслуживания.
- Соответствие стандартам SEMI по механическим интерфейсам и системе автоматического управления (SECS/GEM).
Установка Keto представляет собой вакуумное технологическое оборудование для обработки полупроводниковых пластин с горизонтальным расположением подложек.
Конструктивно установка состоит из горизонтальной транспортной камеры с системой перемещения пластин и интегрированной технологической станции, электротехнического шкафа с блоками питания и управления, а также панелью управления на базе планшета с сенсорным вводом. Загрузка-выгрузка подложек осуществляется модулем загрузки-выгрузки.
Транспортная камера – горизонтальная со шлюзом загрузки-выгрузки, оснащенная манипулятором для перемещения пластин между шлюзом и столиком технологического модуля.
Шлюз служит для перемещения пластин с атмосферы в вакуум и обратно, с использованием мягкой откачки. Откачка производится безмасляным насосом. Напуск производится азотом через пористый фильтр-рассекатель для минимальной дефектности и высокой скорости работы. Объем шлюза минимизирован для быстрого и экономичного вакууммирования и напуска.
При обработке пластина перемещается манипулятором из шлюза на столик технологической станции, и после проведения технологического процесса выгружается обратно в шлюз.
Технологическая станция включает столик, реактор плазмохимического травления, систему откачки, систему подачи технологических газов и систему контроля технологического процесса. Станция оснащена системой герметизации для изоляции от объема транспортной камеры при проведении технологического процесса.
Состав системы управления технологическими газами станции и система контроля технологического процесса формируются в зависимости от используемого технологического устройства и реализуемого процесса.
Система откачки технологической станции реализована на базе химстойкого турбомолекулярного насоса с газобалластным клапаном. Система включает автоматически управляемую дроссельную заслонку для поддержания заданного давления при проведении процесса. Устройство технологической станции обеспечивает симметричную откачку технологического объема.
Столик технологической станции снабжен механизмом подъема для съема пластины с манипулятора и подачи ее в положение обработки. Столик снабжен функциями:
- механического прижима;
- охлаждения/термостатирования;
- подачи смещения (постоянного, импульсного, ВЧ);
На столике может быть смонтирована оснастка для работы с пластинами меньшего диаметра.
Реактор плазмохимического травления реализован на базе источника индуктивно-связанной плазмы высокой плотности с плоской антенной. Стенки реактора – термостабилизированные, с подогревом.
Система управления установкой построена на базе модульного ПЛК и ПК с графическим интерфейсом. Программное обеспечение – на базе специализированной платформы отображается в дублированном режиме на двух мониторах – в «чистой» и «серой» зонах.
Система управления обеспечивает ручное, полуавтоматическое и автоматическое управление всеми системами. Система также обеспечивает:
- визуализацию состояния систем установки и параметров процесса;
- возможность управления уровнями доступа (оператор, технолог, наладчик);
- составление, хранение рецептов технологических процессов и их выполнение в автоматическом или полуавтоматическом режиме;
- протоколирование хода технологического процесса с архивированием и составлением паспорта проведенного процесса для каждой пластины;
- автоматическая проверка камеры и магистралей на течи без использования внешнего течеискателя манометрическим методом;
- сбор производственной статистики;
- управление из интерфейса ПО всеми параметрами системы при использовании соответствующего уровня доступа.
- Система управления соответствует требованиям SECS/GEM. Основной интерфейс управления установкой работает на ПК под управлением ОС Windows.
