| Параметр |
Значение |
|
Тип загрузки |
Ручная |
| Напыление в одном цикле |
одностороннее или двустороннее |
| Технология осаждения покрытий |
Магнетронное распыление |
| Система магнетронного распыления |
Протяженные магнетроны с планарной или цилиндрческой мишенью |
| Максимальная температура нагрева |
350 С |
Установка ARTUM предназначена для осаждения многослойной металлизации методом ионного распыления в магнетронных системах с цилиндрическим катодом с предварительной ионной очисткой перед напылением. Компоновка схемы нанесения установки (источники распыления – внутри цилиндра, формируемого подложками) обеспечивает высокую эффективность использования распыляемого материала и компактность установки в целом.
Особенности установки:
- Одностороннее нанесение покрытия с равномерностью ±5% по загрузке (не менее 76 подложек 60х48 мм);
- Оригинальный механизм вращения барабана обеспечивает надежную работу без ударов и вибраций при частоте вращения от 1 до 40 оборотов/минуту;
- Нагрев до 350°С;
- Высоковакуумная откачка построена на базе турбомолекулярного насоса;
- Универсальные держатели для подложек толщиной от 0,15 до 1,5 мм с простой установкой/снятием;
- Минимальная занимаемая площадь, моноблочное исполнение;
- Автоматическое/ручное выполнение процесса по заданному рецепту с ведением логов технологических параметров, действий оператора, аварийных ситуаций и составлением паспортов проведенных процессов
Конструктивно установка выполнена в виде двух блоков: вакуумная камера установлена на каркасе и электрический шкаф, в котором размещена стойка управления и питания.
Камера установки – горизонтальный цилиндр с боковым отростком, который служит для размещения высоковакуумного насоса и его затвора. Стенки камеры – с каналами водяного охлаждения. Оба торца камеры снабжены откатывающимися дверями. На фронтальной двери располагаются механизм вращения барабана. На задней двери размещены технологические устройства. Обе двери в открытом состоянии могут поворачиваться на 90° для удобства обслуживания размещенных на них устройств.
Стенки камеры, механизм вращения и другие компоненты внутрикамерной оснастки закрыты сменными экранами – защитой от запыления.
В боковом отростке камеры, формирующем порт высоковакуумной откачки, размещены затвор высоковакуумного насоса.
Размещение технологических устройств оптимизировано для снижения тепловой нагрузки на подложки и минимизации взаимного запыления.
Система откачки построена на «сухом» форвакуумном насосе и высоковакуумном турбомолекулярном насосе. Размещение и ориентация высоковакуумного насоса обеспечивают его защиту от распыленного материала и механических частиц.
Высоковакуумный насос снабжен тарельчатым затвором. Уплотнение штока затвора выполнено на металлическом сильфоне, привод – пневматический.
Управление откачкой ведется по вакуумным датчикам, установленным на камере.
Для нанесения на подложки/изделия различных материалов и их комбинации по заданному технологическому процессу, в конструкции оборудования могут быть предусмотрены различные технологические устройства:
- Электронные испарители с кольцевым катодом – 2 шт.
- Планарные магнетроны или цилиндрические магнетроны – 3 шт;
Для управления нагревом применены регуляторы мощности на твердотельных реле. Температура контролируется термопарой для управления режимом нагрева и контроля работоспособности. Установленные нагреватели позволяют нагревать подложки до максимальной температуры 350°С.
Подложки устанавливаются на механизм вращения – барабан, установленный на передней двери. Держатели подложек разрабатываются под требуемый размер подложек и могут учитывать другие требования, например применение теневых масок.
Для прямоугольных подложек используется техническое решение, позволяющее устанавливать подложки с толщинами от 0,15 до 1,5 мм без переналадки. Решение обеспечивает минимальные зоны затенения, надежное и мягкое крепление подложек, длительный срок жизни держателя.
Барабан вращается электроприводом с управляемой частотой вращения. Вращение передается на карусель через вакуумный ввод. Максимальная скорость вращения – 40 оборотов в минуту).