Установка MPC-D2 теперь доступна в новой модификации – с ICP генератором плазмы. Индуктивно-связанная плазма (ICP) — это тип плазменного разряда, создаваемого с помощью высокочастотного электромагнитного поля, индуцируемого катушкой. В отличие от емкостной плазмы (CCP, Capacitively Coupled Plasma), где разряд возникает между двумя электродами, в ICP энергия передаётся бесконтактно, что обеспечивает более высокую плотность плазмы и меньший износ оборудования. Принцип работы ICP
1. Катушка индуктивности, расположенная вокруг плазменной камеры, создаёт переменное магнитное поле
2. Под действием этого поля в газе (аргон, кислород, азот и др.) возникает вихревое электрическое поле, ионизирующее его и формирующее плазму.
3. Плазма удерживается в камере без прямого контакта с электродами Преимущества ICP перед CCP
1. Высокая плотность плазмы лучше подходит для процессов травления
2. Независимость ионов от напряжения — в CCP ионы ускоряются в приэлектродных слоях, что может повреждать тонкие структуры; в ICP энергия ионов и электронов регулируется отдельно.
3. Лучшая однородность плазмы — важна для обработки больших подложек в микроэлектронике.
4. Эффективность при низком давлении — ICP стабильнее работает при низких давлениях, чем CCP. Что же выбрать?
ICP-генераторы обеспечивают более контролируемую и мощную плазму, чем CCP, что делает их предпочтительными для высокоточных технологических процессов. Однако CCP остаётся востребованной в простых и бюджетных решениях.
