| 参数 |
参数值 |
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| 等离子型 |
ICP （电感耦合） |
CCP (电容耦合) |
| 腔体体积，公升 |
从12 到36 |
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| 发电机 | 高频 13,56 MHz |
高频 13,56 MHz 低频 40 кHz /80 кHz |
| 尺寸（长x宽x高） |
600x500х700 mm |
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| 终极真空 |
5 Pa |
MPC-D2台式设备配备12至36升体积的腔体。凭借其紧凑的结构和符合人体工程学的设计，该设备不仅是实验室的最佳选择，也适合用于小批量产品的处理。
该型号支持实现ICP (电感耦合)等离子体。与传统的CCP(电容耦合等离子体)相比，它具有更高的密度和均匀性，这显着提高蚀刻期间从半导体晶片去除光致抗蚀剂的质量和速度，以及在清洁和活化期间进行批量处理时，也能提高产品的处理质量和均匀性。
