| 参数 |
资料描述 |
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| 等离子型 |
ICP |
CCP |
| 箱体体积 , 公升 |
from 12 upto 36 |
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| 发电机 | 高频 13,56 MHz |
高频 13,56 MHz 低频 40 кHz /80 кHz |
| 尺寸（长x宽x高） |
500х740х560 mm |
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| 终极真空 |
5 Pa |
MPC D2系列桌面单元是一个紧凑的单元，腔室容积高达36升，配有低频或高频发生器。 它是完美的研究，实验，以及处理小批量的产品在大规模生产。 低频安装更适合离子等离子体蚀刻、氧化膜的去除以及清洁。 高频安装将是激活和清洁任务的最佳选择。 如果您有任何问题，我们的专家将很乐意为您提供建议！
在该修改中，能够实施ICP(电感耦合)等离子体。 与经典的CCP不同，它具有增加的密度和均匀性，这显着提高了蚀刻期间从半导体晶片去除光致抗蚀剂的质量和速度，以及在清洁和活化期间在组加载
