RU
|
ENG
|
中文
公司
关于公司
品质政策
关于 GN fab 项目
产品
等离子清洗、活化和蚀刻设备 (MPC)
医院等离子处理机 (MPC-Med)
薄膜沉积设备 (Equipment for layers deposition)
蚀刻工艺设备 (Equipment for etching processes)
引入缺陷控制设备 (Equipment for control of introduced defects)
半导体晶圆装卸模块 (LPT)
用于晶圆分选与重排的自动化设备 (EFEM)
技术
# 远程等离子体刻蚀
引入缺陷控制
BOSCH 和 MIX 工艺
什么是RIE?反应离子刻蚀
ICP 与 CCP 等离子体源:工作原理与技术差异
等离子清洗
等离子体活化
等离子体蚀刻
等离子体化学蚀刻
薄膜沉积
等离子体灭菌
信息
活动
我们的刊物
联系我们
RU
|
ENG
|
中文
蚀刻工艺设备 (Equipment for etching processes)
主要
/
产品中心
/
蚀刻工艺设备 (Equipment for etching processes)
远程等离子体蚀刻光刻胶设备 (VEGA)
各向异性等离子化学蚀刻设备 (KETO)
Keto各向异性等离子化学蚀刻设备专用于在微电子制造中对直径不超过 100 毫米的晶片上进行各向异性等离子化学蚀刻和反应离子蚀刻(通过在 工艺台上施加偏压),以及对导电层、介电层和聚合物化合物进行 Bosh 工艺处理。
VETO 反应离子刻蚀(RPVS)设备
请将您的技术规格寄给我们,
我们的专家将与您联系!
联络我们