薄膜沉积设备 (Equipment for layers deposition)

单位置真空设备 (GERA)

GERA是单位置真空设备，专为在 100/150 毫米晶片上执行微电子生产工艺而设计，可处理单个晶片、盒装或密封容器中的晶片。

单位置真空设备 (GERA)

多工位真空设备 (FEBA)

多工位真空设备

多工位真空设备 (FEBA)

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